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Gigaphoton将在SPIE Advanced Lithography + Patterning 2023大会发布技术解决方案

时间:2023年02月18日 11:51:13

公司将在半导体光刻技术盛会上发表论文

日本小山市--(美国商业资讯)--半导体光刻光源制造商Gigaphoton株式会社(总部:栃木县小山市,董事总经理兼首席执行官:Katsumi Uranaka)将参加于太平洋标准时间2023年2月26日(星期日)至3月2日(星期四)在加州圣何塞举行的SPIE Advanced Lithography + Patterning 2023大会。 

Gigaphoton将介绍助力提高产能的前沿技术,以及基于DUV光源技术可持续性解决方案。此外,Gigaphoton还将介绍EUV光源的研发进展。 

* 如果您希望在您的材料中引用这些论文,请联系我们。 

口头演讲:
1) 通过领先的浸入式光源同时改善边缘放置误差(EPE)和可用性 [论文编号:12494-44]
2) 面向半导体制造的等离子体动力学和LPP-EUV光源的前景 [论文编号: 12494-45]
 
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